仍在并购谈判期的中微公司、杭州众硅处于缄默期。中微公司人士对界面新闻称，“相关事宜仍在谈判过程中，目前公司各业务线增长情况都很正常。”杭州众硅方面回复界面新闻说，近期公司不方便对外发声，不接受媒体采访。

1.1.CMP 定位：CMP 是晶圆加工过程中的 C 位要素角色之一 在半导体芯片（以下简称芯片或半导体芯片）制造过程中，半导体硅片（以下简称晶圆） 经过刻蚀、离子注入等工艺过程中，其晶圆表面会变得凹凸不平，并产生多余的表面物等， 为降低晶圆表面的粗糙度 ...

中国半导体设备领域迎来里程碑式整合！龙头中微公司一记“并购重拳”，拟将国产高端CMP抛光设备领军者杭州众硅64.69%股权纳入麾下。这远不止一次商业收购——它意味着中国核心芯片设备版图上，终于补上了湿法工艺最关键的一块拼图。从此，中微从“刻蚀之王”进 ...

12月18日晚间， 中微公司 （SH688012，股价272.72元，市值1708亿元）披露公告，拟发行股份购买杭州众硅电子科技有限公司（以下简称“杭州众硅”）控股权，并募集配套资金。

【大河财立方消息】 12月18日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（证券简称：中微公司）发布公告称，正筹划通过发行股份方式购买杭州众硅电子科技有限公司（以下简称杭州众硅）控股权并募集配套资金，公司股票将自12月19日开市起开始停牌，预计停牌时间不超过10个交易日。

公告显示，中微公司正在筹划通过发行股份的方式购买杭州众硅电子科技有限公司（下称“众硅科技”）控股权并募集配套资金。本次交易尚处于筹划阶段，标的资产估值及定价尚未确定。经初步测算，本次交易不构成重大资产重组，亦不构成关联交易。

1.1. CMP 工艺是晶圆全局平坦化的关键工艺 晶圆制造流程可以广义地分为晶圆前道和后道 2 个环节，其中前道工艺在晶圆厂中进行，主要负责晶圆的加工制造，后道工艺在封测厂中进行，主要负责芯片的封装测试，其中，化学机械抛光（CMP）是实现晶圆全局平坦化 ...

CMP设备通过化学腐蚀与机械研磨的协同配合作用，实现晶圆表面多余材料的高效去除与全局纳米级平坦化。目前集成电路组件普遍采用多层立体布线，集成电路制造的工艺环节要进行多次循环，每完成一层布线都需要对晶圆表面进行全局平坦化和除杂，从而进行 ...

智通财经APP讯，华海清科(688120.SH)发布公告，近日，公司化学机械抛光(CMP)装备出机累计超800台，涵盖公司Universal-H300、Universal-S300等多款主力机型和最新款机型，不仅全面覆盖逻辑、3DNAND存储、DRAM存储等主流产品线，更成功切入大硅片、第三代半导体、CIS、MEMS、MicroLED以及先进封装等领域头部客户供应链，已实现国内主流集成电路制造产线 ...

禾臣新材料有新型显示吸附垫\抛光垫、光罩掩膜版基材、半导体用CMP抛光材料3大类产品，已经服务国内30多家头部客户。 36氪获悉，安徽禾臣新材料有限公司（以下简称“禾臣新材料”）完成1亿元的新一轮融资，由深圳市高新投、安徽省江东产投领投，和县和 ...