本文报道了一种创新的氨硼烷（BNH6）一体化改性策略，通过同时处理钙钛矿层的上下界面，实现了双界面缺陷钝化并抑制了碘离子（I?）氧化。该策略利用BNH6的多功能特性：水解产物与SnO2相互作用、配位钝化Pb2+缺陷以及作为还原剂将I0还原为I?，从而显著提升了 ...

原子层沉积系统（Atomic Layer Deposition, ALD）是用于制备超薄、均匀且厚度可控薄膜的关键技术，适用于纳米技术和半导体微电子领域。美国Angstrom公司生产的Angstrom Dep II、Angstrom Dep III及Angstrom Dep I系列设备，支持热ALD、等离子体增强ALD及粉末ALD，可满足不同基底 ...