NPE-4000（ICPM）ICPECVD等离子体化学气相沉积系统是一款高性能的沉积设备，适用于沉积高质量的SiO2、Si3N4或DLC薄膜，具备分形气流分布优势及广泛的应用范围，包括等离子诱导表面改性、等离子清洗、等离子聚合等。其特点包括立式设计、不锈钢或铝制腔体、极限 ...

1200℃高真空迷你CVD设备CY-CVD1200-3T为小型化CVD系统，核心是一款迷你管式炉，采用电阻丝加热，设备*高温度可达1200℃。仪器还包含一台三路浮子流量计，一台分子泵组，分别构成了CVD的进气和出气部分。 特点 1. 炉管右侧有数显真空计，用以控制炉管内部的真空 ...

光伏电池生产过程中产生的废气主要来源于多个工艺环节。在硅片清洗环节，使用氢氟酸、硝酸等酸性溶液会产生酸性废气；扩散工序中磷扩散使用的POCl3会产生含磷废气；刻蚀工艺中使用的CF4、SF6等气体以及产生的SiF4等副产物；PECVD工序中使用的硅烷、氨气等 ...