等离子清洗技术起源于约30年前的半导体行业,等离子清洗主要用于清洗样品表面的碳氢化合物.等离子清洗的关键要点在于：不能改变样品本身的化学组成;不能改变样品的结构特征;不能损伤样品表面. SOLARUS - 全新先进等离子体清洗系统，去除碳氢化合物对TEM和SEM ...